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北京快三追号计划图:濺射靶材的工作原理

[ 發布日期:2019-04-09 10:20:51 點擊:1040 來源:洛陽高新四豐電子材料有限公司 【打印此文】 【關閉窗口】]

北京快三一定牛电脑版 www.ghfec.icu   眾所周知,靶材材料的技術發展趨勢與下游應用產業的薄膜技術發展趨勢息息相關,隨著應用產業在薄膜產品或元件上的技術改進,靶材技術也應隨之變化。而濺射靶材的要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。那么什么是北京快三一定牛电脑版?

  濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。濺射靶材主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

  濺射靶材是真空磁控濺射(PVD)鍍膜所需的關鍵耗材,濺射靶材的工作原理是什么呢?

  濺射靶材工作原理:

  濺射靶材工作原理示意圖如下:

濺射靶材工作原理示意圖


  一般來說,濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構成,其中,靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料,屬于濺射靶材的核心部分,在濺射鍍膜過程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜;由于高純度金屬強度較低,而濺射靶材需要安裝在專用的機臺內完成濺射過程,機臺內部為高電壓、高真空環境,因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合,背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,且需要具備良好的導電、導熱性能。

  圍繞著濺射靶材的工作原理,我們不得不提的就是我國濺射靶材行業發展情況。

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  我國濺射靶材行業發展情況:

  受到發展歷史和技術限制的影響,濺射靶材行業在我國起步較晚,目前仍然屬于一個較新的行業。與國際知名企業生產的濺射靶材相比,我國濺射靶材研發生產技術還存在一定差距,市場影響力相對有限,尤其在半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領域,全球高純濺射靶材市場依然被美國、日本的濺射靶材生產廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發展,我國濺射靶材生產企業只有不斷進行研發創新,具備較強的產品開發能力,研制出適用不同應用領域的濺射靶材產品,才能在全球濺射靶材市場中占得一席之地。

  半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游工業對產品的品質和穩定性等方面有較高的要求,為了嚴格控制產品質量,下游客戶尤其是全球知名廠商在選擇供應商時,供應商資格認證壁壘較高,且認證周期較長。我國高純濺射靶材企業要進入國際市場,首先要通過部分國際組織和行業協會為高純濺射靶材設置的行業性質量管理體系標準,例如,應用于汽車電子的半導體廠商普遍要求上游濺射靶材供應商能夠通過ISO/TS16949質量管理體系認證,應用于電器設備的濺射靶材生產商需要滿足歐盟制定的RoHS強制性標準;其次,半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游知名客戶均建立了十分完善的客戶認證體系,在高純濺射靶材供應商滿足行業性質量管理體系認證的基礎上,下游客戶往往還會根據自身的質量管理要求再對供應商進行合格供應商認證。認證過程主要包括技術評審、產品報價、樣品檢測、小批量試用、批量生產等幾個階段,認證過程相當苛刻,從新產品開發到實現大批量供貨,整個過程一般需要2-3年時間。為了降低供應商開發與維護成本,保證產品質量的持續性,濺射靶材供應商在通過下游客戶的資格認證后,下游客戶會與濺射靶材供應商保持長期穩定的合作關系,不會輕易更換供應商,并在技術合作、供貨份額等方面向優質供應商傾斜。

  近年來,受益于國家從戰略高度持續地支持電子材料行業的發展及應用推廣,我國國內開始出現少量專業從事高純濺射靶材研發和生產的企業,并成功開發出一批能適應高端應用領域的濺射靶材,為高純濺射靶材大規模產業化提供了良好的研發基礎和市場化條件。通過將濺射靶材研發成果產業化,積極參與濺射靶材的國際化市場競爭,我國濺射靶材生產企業在技術和市場方面都取得了長足的進步,改變了高純濺射靶材長期依賴進口的不利局面。目前,江豐股份等國內企業已經掌握了高純濺射靶材生產的關鍵技術,積累了較為豐富的產業經驗,擁有了一定的市場知名度,獲得了全球知名客戶的認可。

  了解了我國濺射靶材行業發展情況,想必目前大家最好奇的應該就是行業競爭格局了,接下來我們就為大家進行一下介紹。

  濺射靶材行業競爭格局:

  1)跨國公司競爭優勢明顯,處于行業領導地位

  高純濺射靶材是伴隨著半導體工業的發展而興起的,屬于典型的技術密集型產業,產品術含量高,研發生產設備專用性強。隨著半導體工業技術創新的不斷深化,以美國、日本為代表的半導體廠商需要加強對上游原材料的創新力度,從而最大限度地保證半導體產品的技術先進性,因此,美國、日本的半導體工業相繼催生了一批高純濺射靶材生產廠商,并于當前居于全球市場的主導地位,在一定程度上,全球半導體工業的區域集聚性造就了高純濺射靶材生產企業的高度聚集。自誕生之日起,以美國、日本為代表的高純濺射靶材生產企業便對核心技術執行嚴格的保密措施,導致濺射靶材行業在全球范圍內呈現明顯的區域集聚特征,生產企業主要集中在美國和日本。

  全球范圍內,日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學、愛發科等資金實力雄厚、技術水平領先、產業經驗豐富的跨國公司居于全球高純濺射靶材行業的領導地位,屬于濺射靶材的傳統強勢企業,憑借其強大的技術研發實力和市場影響力牢牢占據全球濺射靶材市場的絕大部分市場份額,主導著全球濺射靶材產業的發展,推動行業技術的進步。

  2)國內專業廠商興起,與跨國公司的差距逐步縮小

  國內市場中,高純濺射靶材產業起步較晚,主要高純濺射靶材生產企業均由國有資本和少數民營資本所投資。受到技術、資金和人才的限制,國內專業從事高純濺射靶材的生產廠商數量仍然偏少,企業規模和技術水平參差不齊,多數國內廠商還處于企業規模較小、技術水平偏低、產業布局分散的狀態,市場尚處于開拓初期,主要集中在低端產品領域進行競爭,在半導體芯片、液晶顯示器和太陽能電池等市場還無法與國際巨頭全面抗衡,但是依靠產業政策導向、產品價格優勢已經在國內市場占有一定的市場份額,并逐步在個別產品或領域擠占國際廠商的市場空間。

  一個國家的強大,離不開精神的支撐,一個國家的強大更離不開先進的科學技術和人才,目前,濺射靶材產業正在經歷高速發展時期,上升勢頭較快只有不斷彌補國內同類產品的技術缺陷,進一步完善濺射靶材產業發展鏈條,并積極參與國際技術交流和市場競爭,才能使濺射靶材產業整體實力越來越強。